2022上海國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會
Shanghai lithography equipment and photomask Application Technology Exhibition
〓 基本信息 〓
時(shí)間：2022年11月14-16日 地點(diǎn)：上海新國際博覽中心
Time：November 14-16.2022 Venue:Shanghai New International Expo Centre
〓 展會前言 〓
微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力，21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。
隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進(jìn)的大視場、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備�！�2022上海國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會”將于11月14-16日在上海新國際博覽中心隆重舉辦，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！
〓 展商受益 〓
1、 收集最新的高質(zhì)量銷售資訊，結(jié)識高質(zhì)量買家并達(dá)成銷售交易。
2、 了解未來生產(chǎn)需求發(fā)展全球戰(zhàn)略。
3、 與全國代理、經(jīng)銷商構(gòu)建銷售網(wǎng)絡(luò)。
4、 通過與各地生產(chǎn)商和買家的合作來發(fā)掘新的商業(yè)機(jī)會。
5、 加強(qiáng)公司品牌建設(shè)，提高公司的行業(yè)知名度。
6、 獲得關(guān)于最新市場趨勢、技術(shù)創(chuàng)新、行業(yè)最新發(fā)展動態(tài)以及的相關(guān)行業(yè)資訊。
〓 為何參展 〓
預(yù)計(jì)30,000余專業(yè)人次來自光刻設(shè)備全產(chǎn)業(yè)鏈的專業(yè)買家將蒞臨現(xiàn)場
預(yù)計(jì)面積達(dá)30000平方米，500余家行業(yè)企業(yè)同期展示，共赴行業(yè)盛會
35家合作機(jī)構(gòu)組團(tuán)參觀
形式多樣的配套會議及活動，涵蓋組團(tuán)參觀、、論壇、訪談
全方位海內(nèi)外渠道營銷，線上與線下共同造勢
超過300家行業(yè)媒體，提供全天候，一站式營銷解決方案
穩(wěn)固老客戶，開拓新市場，發(fā)現(xiàn)新機(jī)遇
〓 目標(biāo)觀眾 〓
邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會參觀、洽談。
〓 日程安排 〓
布展時(shí)間：2022年11月12- 13日 AM8:30-PM19:30
展覽時(shí)間：2022年11月14日 AM9:30-PM16:45
2022年11月15日 AM9:30-PM16:30
撤展時(shí)間：2022年11月16日 PM14:00-24:00
〓 參展范圍 〓
◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；
◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等；
〓 聯(lián)系我們 〓
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